A 10× Schwarzschild system for soft-x-ray projection lithography
D.A. Tichenor, G. D. Kubiak, M. E. Malinowski, R. H. Stulen, S.J. Haney, K. W. Berger, R. P. Nissen, R. L. Schmitt, G. A. Wilkerson, P. S. Jin, W. C. Sweatt, W. W. Chow, J. E. Bjorkholm, R. R. Freeman, M. D. Himel, A. A. MacDowell, D. M. Tennant, O. R. Wood, W. K. Waskiewicz, D. L. White, D. L. Windt, and T. E. Jewell
MYY.7 OSA Annual Meeting (FIO) 1993 View: PDF